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大容量光化學(xué)反應(yīng)儀CH-GHX-B光降解反應(yīng)釜
產(chǎn)品簡介

大容量光化學(xué)反應(yīng)儀CH-GHX-B光降解反應(yīng)釜光化學(xué)反應(yīng)儀, 又稱為光化學(xué)反應(yīng)釜,多功能光化學(xué)反應(yīng)器.主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應(yīng)容器是否負(fù)載TiO2光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。具有提供分析反應(yīng)產(chǎn)物和自由基的樣品,測定反應(yīng)動力學(xué)常數(shù),測定量子產(chǎn)率等功能,廣泛應(yīng)用化學(xué)合成、環(huán)境保護(hù)以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域。

產(chǎn)品型號:
更新時(shí)間:2024-09-22
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
訪問量:471
詳細(xì)介紹在線留言
品牌其他品牌產(chǎn)地類別國產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域化工,生物產(chǎn)業(yè),農(nóng)業(yè),石油,制藥汞燈功率調(diào)節(jié)范圍0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)
氙燈功率調(diào)節(jié)范圍0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)金鹵燈功率調(diào)節(jié)范圍0~500W可連續(xù)調(diào)節(jié)
適用行業(yè)化學(xué)合成、環(huán)境保護(hù)樣品反應(yīng)瓶數(shù)量8只(30ml,50ml共8只)


大試管1.jpg

大容量光化學(xué)反應(yīng)儀CH-GHX-B光降解反應(yīng)釜技術(shù)參數(shù):

型號:CY-GHX-B大容量光化學(xué)反應(yīng)儀

(一)主體部分

1.光源功率可連續(xù)調(diào)節(jié)大小。

2.集成式光源控制器,可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。

3.汞燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

4.氙燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

5.金鹵燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~500W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

(二)大容量反應(yīng)部分

1.玻璃反應(yīng)器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等(或定做)。

2.大功率強(qiáng)力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。

大容量光化學(xué)反應(yīng)儀產(chǎn)品配置:

配置單

數(shù)  量

控制主機(jī)

1臺

反應(yīng)暗箱

1臺

光源控制器

1臺

雙層石英冷阱

1個(gè)

汞燈(1000W)

1支

氙燈(1000W)

1支

金鹵燈(500W)

1支

攪拌裝置

1套

樣品反應(yīng)瓶

8只(30ml,50ml共8只)

 











光化學(xué)反應(yīng)儀的功率連續(xù)可調(diào)節(jié),國內(nèi)同類產(chǎn)品的空白。
我公司推出的直流控制方式控制器具有以下特點(diǎn):
(1)可將燈的使用壽命延長1倍以上
(2)電流、電壓更加穩(wěn)定
(3)光能量更為集中。
新品的推出將為光化學(xué)產(chǎn)品帶來技術(shù)上的重大革新。
一、微電腦控制器,功率連續(xù)可調(diào);
◆有微電腦定時(shí)器,可分步定時(shí);
◆采用集成控制方式,內(nèi)置汞燈鎮(zhèn)流器、氙燈鎮(zhèn)流器和金鹵燈鎮(zhèn)流器。
◆控制器置有電流表和電壓表,便于觀察電流和電壓變化或功率LED顯示或二者均有(可隨時(shí)切換);
◆汞燈功率調(diào)節(jié)范圍:100~500W 、100~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
氙燈功率調(diào)節(jié)范圍:100~500W 、100~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
金鹵燈功率調(diào)節(jié)范圍:100~500W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
二、箱門有觀察窗,插入有色玻璃能擋住紫外光和大部分可見光;箱體內(nèi)部為黑色,以降低光反射; 后板下部有 8個(gè)孔洞,供冷卻水管、氣管及連接控制器的電纜通過; 箱體內(nèi)左側(cè)有 2個(gè)插座,供箱內(nèi)燈源和攪拌反應(yīng)器插頭用。
三、配有光化學(xué)大功率冷卻液循環(huán)裝置,降溫效果更明顯;(II型和V型)
四、配置光化學(xué)反應(yīng)儀八位磁力攪拌器;八位反應(yīng)器配套玻璃反應(yīng)試管可以分別選用30ml、50ml、100ml、150ml、200ml。(IV和V型號)
五、玻璃反應(yīng)器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等。(I型和II型) 六、全石英玻璃冷阱(冷卻水底部延伸冷卻循環(huán))。


大容量光化學(xué)反應(yīng)儀CH-GHX-B光降解反應(yīng)釜光化學(xué)反應(yīng)儀主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應(yīng)容器是否負(fù)載TiO2光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。具有提供分析反應(yīng)產(chǎn)物和自由基的樣品,測定反應(yīng)動力學(xué)常數(shù),測定量子產(chǎn)率等功能,廣泛應(yīng)用化學(xué)合成、環(huán)境保護(hù)以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域
光化學(xué)、干膜、曝光及顯影制程術(shù)語手冊1、Absorption 領(lǐng)受,吸入
指被領(lǐng)受物會進(jìn)入主體的內(nèi)部,是一種化學(xué)式的吸入步履。如光化反映中的光能領(lǐng)受,或板材與綠漆對溶劑的吸入等。還有一近似詞 Adsorption 則是指吸附而言,只附著在主體的概略,是一種物理式的親和吸附。
2、Actinic Light(or Intensity,or Radiation) 有用光
指用以完成光化反映各類光線中,其Z有用波長規(guī)模的光而言。例如在360~420 nm 波長規(guī)模的光,對偶氮棕片、淺顯吵嘴底片及重鉻酸鹽感光膜等,其等反映均Z快Z且功用Z大,謂之有用光。
3、Acutance 解像尖銳度
是指各類由感光編制所取得的圖像,其線條邊緣的尖銳景象抽象 (Sharpness),此與解像度 Resolution 不合。后者是指在必定寬度距離中,可以了了的顯像(Develope)解出若干良多多少組“線對"而言(Line Pair,系指一條線路及一個(gè)空間的組合),普簡易稱只說解出機(jī)條“線"而已。
4、Adhesion Promotor 附出力增進(jìn)劑
多指干膜中所添加的某些化學(xué)品,能促使其與銅面發(fā)生“化學(xué)鍵",而增進(jìn)其與底材間之附出力者皆謂之。
5、Binder 粘結(jié)劑
各類積層板中的接著樹脂部份,或干膜之阻劑中,所添加用以“成形"而不致太“散"的接著及組成劑類。
6、Blur Edge(Circle)恍惚邊帶,恍惚邊圈
多層板各內(nèi)層孔環(huán)與孔位之間在做瞄準(zhǔn)度搜檢時(shí),可把持 X光透視法為之。由于X光之光源與其機(jī)組均非平行光之機(jī)關(guān),故所得圓墊(Pad)之減少回憶,其邊緣之解像其實(shí)不明銳了了,稱為 Blur Edge。
7、Break Point 出像點(diǎn),顯像點(diǎn)
指制程中已有干膜貼附的“在制板",于自動保送線顯像室上下噴液中遏制顯像時(shí),抵達(dá)其完成沖洗而閃現(xiàn)出了了圖形的“旅程點(diǎn)",謂之“Break Point"。所經(jīng)歷過的沖洗旅程,以占顯像室長度的 50~75% 之間為好,如斯可以使剩下旅途中的清水沖洗,更能增強(qiáng)斷根殘膜的成果。
8、Carbon Arc Lamp 碳弧燈
晚期電路板底片的翻制或版膜的分娩時(shí),為其曝光所用的光源之一,是在中心迫近的碳精棒之間,施加高電壓而發(fā)生弧光的拆卸。
9、Clean Room 無塵室、潔凈室
是一個(gè)遭到賣力經(jīng)管及精采把握的房間,其溫度、濕度、壓力都可加以調(diào)劑,且氣氛中的塵埃及臭氣已予以消弭,為半導(dǎo)體及細(xì)線電路板分娩制造必需的景象抽象。淺顯“潔凈度"的表達(dá),是以每“立方呎"的氣氛中,含有大于0.5μm以上的塵粒數(shù)目,做為分級的尺度,又為儉仆成本起見,常只在使命臺面上設(shè)置部門無塵的景象抽象,以嘗試必需的使命,稱 Clean Benches。
10、Collimated Light 平行光
以感光法遏制回憶轉(zhuǎn)移時(shí),為添加底片與板面間,在圖案上的變形走樣起見,應(yīng)采納平行光遏制曝光制程。這類平行光是經(jīng)由屢次反射折射,而取得低熱量且近似平行的光源,稱為Collimated Light,為細(xì)線路建筑必需的裝備。由于垂直于板面的平行光,對板面或景象抽象中的少許塵埃都很是緩慢,常會忠誠的暗示在所曬出的回憶上,構(gòu)成許多額定的漏洞錯(cuò)誤,反不如淺顯散射或漫射光源可以也許自彼此補(bǔ)而消彌,故采納平行光時(shí),必需還要無塵室的合營才行。此時(shí)底片與待曝光的板面之間,已無需再做抽真空的密接(Close Contact),而可間接使用較嚴(yán)重的 Soft Contact或Off Contact了。





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